技术编号：11529399
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对线性加速器或者更一般地对要被抽成真空的大空间环境特别有用的改进的吸气剂泵送系统，其中，所述要被抽成真空的大空间环境比如是用于进行如溅射的薄膜沉积处理或真空处理、用于以干燥蚀刻、离子注入进行半导体制造、或者用于使大型检测器保持真空的大型超高真空(UHV)/高真空(HV)机器。另一应用是对在核能系统、特别是基于聚变的系统的特定室中的残余气体压力例如H2及其同位素的控制。背景技术一般而言，基于吸气剂对大空间环境中的真空控制的解决方案分为两种主要类型。第一种类型的解决方案例如在EP09647...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。