技术编号：11530232
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。高数值孔径物镜系统相关申请的交叉引用本申请要求2014年9月29日提交的美国申请62/056701的权益，并且该申请通过引用全部合并于此。技术领域本公开涉及可以用在例如光刻设备的检查系统中的物镜系统的各种配置。背景技术光刻设备是将期望的图案施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以例如用在集成电路(IC)的制造中。在这种情形中，备选地称为掩模或掩模版的图案化装置可以用于生成对应于IC的单独层的电路图案，并且该图案可以被成像到具有辐射敏感材料层(抗蚀剂)的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包...
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