技术编号:11531346
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体上涉及用于利用持久晶片成像进行自动化工艺窗口特征化和系统性缺陷检测的方法和系统。背景技术以下描述和实例并非由于其包含在这段落中而被承认为现有技术。在半导体制造工艺期间的各个步骤使用检验过程以检测晶片上的缺陷以促进所述制造工艺中的较高良率和因此较高收益。检验始终为制造半导体装置的重要部分。然而,随着半导体装置的尺寸减小,检验对于可接受半导体装置的成功制造变得更加重要,这是因为较小缺陷可引起所述装置发生故障。工艺窗口合格性鉴定(PWQ)是对以特定方式制造的样品执行的检验类型,其对于检验是否...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。