技术编号:11531727
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光照射装置。背景技术激光退火装置是这样的装置:将从准分子激光器等激光系统输出的具有紫外线区域的波长的脉冲激光照射至在玻璃基板上成膜的无定形(非结晶)硅膜上,使其改质为多晶硅膜。通过使无定形硅膜改质为多晶硅膜,由此能够制作出TFT(薄膜晶体管)。该TFT在比较大的液晶显示器中被使用。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开2014-139991号公报专利文献2:日本特开2012-243818号公报专利文献3:日本特开2011-233597号公报专利文献4:日本特开2005-099427...
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