技术编号：11539938
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蚀刻膏领域，尤其是一种蚀刻膏及其制备方法。背景技术传统的蚀刻主要是用耐酸碱的油墨或者光刻胶丝印印刷需要保护的部分,把需要被蚀刻的部分暴露在外面。然后将需要被蚀刻的产品放入强酸中腐蚀蚀刻,没有被保护的部分即被腐蚀掉,随着酸液一起被洗脱，被保护部分的图案就显现出来。产品经过酸蚀刻后再放入碱液中清洗去除油墨或者光刻胶,经过多次清洗就可已得到电路图形。传统蚀刻方法的缺点在于工艺复杂。例如在湿法蚀刻中蚀刻的时间和碱洗的时间都有严格的要求,工序比较复杂。而光蚀刻工艺对光刻胶以及ITO表面的要求都较...
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