技术编号：11540497
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种非晶态的、软磁性能好的Co67FexMo5.5-xSiyB27-y薄膜的制备方法。背景技术非晶和纳米晶合金因为其优异的软磁特性而广泛应用在不同的领域：如磁光存储，磁屏蔽和磁传感器。其中富含钴和铁的磁性合金具有高居里温度、高磁导率、低磁损耗、低矫顽力和高饱和磁化强度等优异的磁特性，被广泛应用于传感器，执行器和磁记录头等磁性器件。随着磁性器件向微型化方向发展，需要磁性合金材料实现微型化，因此磁性合金的薄膜化是必不可少的。非晶态磁性薄膜的制备多采用物理气相沉积的方式：真空蒸镀和直流磁控溅...
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