技术编号:11542405
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及镜片镀膜领域,尤其涉及一种镜片真空镀膜用的坩埚装置。背景技术镜片真空镀膜工艺过程包括对真空镀膜机抽真空,使真空室处于真空状态,再通过电子枪束流对真空室底部坩埚内的镀膜材料加热,镀膜材料在加热到一定的温度后,镀膜材料会产生升华,升华出的镀膜材料分子沉积在真空室上部的产品表面形成薄膜。现有技术的坩埚上设有圆形或矩形的放料槽,在放料槽内放置镀膜材料。工作时,坩埚转动,坩埚一侧的电子枪对放料槽内的镀膜材料加热,使镀膜材料升华。然而,圆形或矩形的放料槽设置在坩埚上,放料槽之间有空隙,当空隙转...
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