技术编号：11570836
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是应用于物理溅射成膜领域的一种监控靶材消耗状况的装置及方法。背景技术在薄膜晶体管基板制作过程中，需要在玻璃基板上沉积铝、钼、钛、铜等金属膜以及半导体透明导电膜、IGZO等非金属膜，该制程通常使用物理气象沉积机(PVD)完成；物理气象沉积机工作原理是利用电浆中的氩离子，对靶材(target)进行轰击，溅射出靶材原子，转移到玻璃基板表面完成膜层的沉积；机台根据沉积膜层的需要安装相应的靶材，靶材随着使用时间的延长不断被消耗，目前机台上靶材消耗完毕无法及时发现，易发生靶材被击穿的状况，对背板和产品...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。