技术编号:11570839
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空镀膜设备的蒸发源控制装置及其控制方法,特别是涉及一种基于CAN总线的真空镀膜设备的蒸发源控制装置及其控制方法。背景技术蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质以及得到不易热分解的化合物膜的特点。蒸发镀膜设备是一种通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面上的设备。蒸发镀膜设备也称为真空镀膜机或者真空镀膜系统。蒸发镀膜设备包括真空罩(也称为真空镀膜室)和抽真空系统,还包括设置在真空罩中的基片和蒸发源。基片位于蒸发源上方。基片就是待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等。蒸...
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