技术编号：11576579
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种实现定点去除的聚焦离子束四级栅网系统及其方法。背景技术在科学和工程技术领域，超精密光学元件的制造技术正在成为关注的热点，光学元件超精密化发展，是光学系统自身发展极限化所提出的要求。现代短波光学、强光光学、电子学、IC技术、信息存储技术及薄膜科学的发展对表面的要求则更为苛刻，一般称表面粗糙度优于纳米量级的表面为超光滑表面。常用的超光滑表面加工方法有浴法抛光、浮法抛光及延展性抛光等。此类加工方法虽可得到极低的表面粗糙度，但由于传统工艺主要采用接触式加工方式，即使可得到满足表面粗糙度要求...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。