技术编号：11628221
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。基板湿式处理装置及包括其的单晶圆蚀刻清洗装置【技术领域】本发明是关于一种基板处理装置，尤指一种基板湿式处理装置及包括其的单晶圆蚀刻清洗装置。【背景技术】在半导体晶圆、显示器基板、太阳能基板、LED基板等的工艺中，都需要对基板进行多道处理步骤，例如对晶圆的表面喷洒处理液(例如化学品或去离子水等)，以进行晶圆的蚀刻、清洗等湿式处理程序。请参照图1，图1为现有的旋转蚀刻清洗机台的剖面示意图。现有的旋转蚀刻清洗机台10包括一蚀刻腔体12，蚀刻腔体12中设有一载台14用以承载及固定一晶圆W，载台14下方的...
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