技术编号：11630724
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在用于微米和纳米压印光刻技术的图案转移工艺中使用的装置，其涉及将图案从具有结构化表面的模板转移至基板的目标表面。更具体地，本发明涉及一种用于将基板安装在模板处，并在压印之后将模板从基板上脱模的装置。背景技术纳米压印光刻技术(NIL)已存在了超过十年之久。已对将微米和纳米级结构从印模或模板转移至基板进行了许多改进。用于微米和纳米级图案转移的大批量制造工具通过卷对卷工艺实现。已在许多工业应用中部署了该项技术，包括医学科学、微电子学、微观力学等。ObducatAB是九十年代后期使纳米压印...
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