技术编号:11636007
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。离子植入工艺及设备相关申请案的交叉参考本文借此依据35U.S.C§119主张2014年10月27日申请的第62/069,272、62/069,259及62,069,233号美国临时专利申请案的优先权益。第62/069,272、62/069,259及62,069,233号美国临时专利申请案的揭示内容的相应全文借此出于所有目的而以引用方式并入本文中。技术领域在一个方面中,本发明涉及离子植入系统及方法,其中将掺杂剂物种原位提供或生成到离子植入设备的离子源腔室。在另一方面中,本发明涉及锑、铟及镓前驱物组...
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