技术编号:11647623
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜装置。背景技术在现有技术中,对于柔性显示基板,例如:OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机发光二极管)显示屏,制备工艺分为两类:一类为,在玻璃基板上涂覆柔性薄膜,待封装工序完成后将柔性薄膜和玻璃基板分离;另一类为,在柔性基板上直接通过镀膜工艺等制备显示器件。现有镀膜设备中,以磁控溅射设备为例,其是通过离子轰击靶材,在基板表面上进行薄膜沉积。但是,在现有技术中,对于平面玻璃基板来说,进行磁控溅射时,通过掩膜版可以直接在平面玻璃基板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。