技术编号：11647679
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积技术领域，特别是一种用于等离子体化学气相沉积的微波谐振腔及采用该微波谐振腔的等离子体化学气相沉积装置。背景技术微波等离子体化学气相沉积（CVD）法是利用微波能量来激发等离子体，实现对材料（金刚石、石墨烯等）的制备。由于其等离子体产生涉及的是一种无电极放电过程，所以这种等离子体比较纯净，能够避免热丝CVD法、直流喷射CVD法制备材料时因热丝金属或钨电极蒸发对材料造成的污染。与射频CVD法相比较，微波等离子体CVD法具有放电区域相对集中，能量密度高，沉积速率快的特点。因此，这种...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。