技术编号:11647699
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于激光材料加工技术领域,更具体地,涉及一种去除激光熔覆层气孔/夹杂物的激光熔覆装置和方法。背景技术激光熔覆层中的气孔是常见缺陷,对熔覆层的质量有较大影响,产生气孔的原因较多,例如,采用粘结法预置涂层材料时,如果粘结剂选择不当,很容易产生激光熔覆气孔。即使在自动送粉的情况下,对于高碳合金、铜合金、铝合金等的激光熔覆,也容易出现熔覆层气孔。目前,避免激光熔覆层气孔的方法有两种,第一种是采用B、Si等作脱氧剂的自熔合金,其优点是合金产生自保护作用,造渣少、效果好;其缺点是,B、Si有一定的副作...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。