技术编号:11685185
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于混合导体膜材料领域,具体涉及一种阴离子掺杂的K2NiF4型混合导体透氧膜材料及其制备方法与应用。背景技术氧离子-电子混合导体是一类同时具有氧离子导电和电子导电性能的新型陶瓷膜材料,此类材料不仅具有催化活性,还可以在中高温下选择性透氧,在透氧过程中氧气以离子氧的形式通过氧空穴来传导,理论上对氧的扩散选择性为100%,采用混合导体透氧膜的高温分离装置可实现空气的直接分离,获得纯度极高的氧气,这种高温纯氧分离装置结构简单,相比于传统的空分技术,装置投资可节省50%以上,操作成本也降低,因而在...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。