技术编号：11704683
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。低温泵本申请主张基于2016年1月8日申请的日本专利申请第2016-002490号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。技术领域本发明涉及一种低温泵。背景技术低温泵是通过冷凝或吸附将气体分子捕捉于冷却至超低温的低温板从而进行排气的真空泵。低温泵通常是为了实现半导体电路制造工艺等中要求的清洁的真空环境而进行利用。在低温泵的一种应用(例如如离子注入工序)中，有时存在应排气的气体的大部分为非冷凝性气体(例如氢等)的情况。非冷凝性气体只有使其吸附于冷却至超低温的吸附区域才开始排气。专利...
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