技术编号：11705451
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于材料检测领域，具体涉及一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置。本实用新型能够用于科学研究和工业制造中对透明材料表面和内部缺陷的成像检测。背景技术透明光学材料的表面和内部缺陷（如划痕、夹杂物、嵌入物、附着的污染物和气泡等）影响了元件的光学性能，如高能激光系统中光学元件表面和内部缺陷会吸收光能量而使元件容易损伤，再如用于沉积电路图案的半导体和玻璃衬底，其表面缺陷会降低沉积电路的良品率。暗场照明显微镜是检测缺陷的有效装置。暗场照明显微镜采用特殊的照明方式避免照明光及其反射、折射...
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