技术编号：11706844
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种防焊半自动曝光机的双面自动对位方法及设备，其用于解决目前传统曝光机只能单面自动对位，而导致的生产效率低的技术难题。背景技术近年来随着电子技术的快速发展，用于PCB行业对于提升产能需求急剧提高，传统防焊半自动曝光机，基于传统设备机械结构的设计理念的限制，采用较为复杂的对位机构，占用了下工作框正下方的结构空间，无法在设备结构上形成双层工业CCD视觉系统的布局，只能在上工作框的正上方安装工业CCD视觉系统，只能用于实现上菲林与PCB板的正面自动对位，进行单面曝光，导致整体工作效率低。这方...
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