技术编号：11715964
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于表面处理技术领域，尤其涉及一种靶材喷砂装置。背景技术荷能粒子（例如氩粒子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该固体表面逸出的现象称溅射工艺，其中被轰击的固体称为靶材。目前，溅射工艺常应用在薄膜沉积生产领域，例如，在TFT-LCD面板制作过程中，其中一道工序使在玻璃基板上沉积一层钼薄膜，则需要使用钼靶材对玻璃基板进行溅射。在溅射工艺中，靶材组件作为阴极，首先应具有优良的导电性，同时为了排放高荷能态离子高速轰击靶材表面产生的热量，靶材组件也要具有优良的导热性，因此，靶...
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