技术编号：11719899
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示器件技术领域，特别是涉及一种高阻层、触控装置及其制备方法。背景技术在内嵌式触摸屏的抗干扰高阻技术研究中存在一对长期困扰研究者的矛盾体，即：高阻层的阻值越大，防静电效果越不明显；高阻层的阻值越小，防静电效果越好；然而高阻层的阻值太小，对内嵌式触摸屏造成干扰越大，进而影响触摸的效果。如此得到既能防静电又能抗干扰的触摸屏十分困难。目前的解决方式是在触控显示层外表面上的偏光片上通过涂布技术涂覆一层防静电抗干扰的透明功能膜，然而该技术目前处于垄断地位，使用该加工方法成本高，效果有待提高。目前...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。