技术编号:11726759
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及电容器技术领域,尤其是涉及高场强应用的金属化膜电容器技术领域。背景技术金属化膜电容器广泛应用于高低压电气领域,其应用场合包括了交流(滤波、无功补偿等)、直流支撑DC-Link和脉冲放电领域等。金属化膜电容器是采用真空蒸镀技术,将很薄的金属电极(通常为纳米级的Zn、Al或者Zn与Al的合金)蒸镀在厚度为微米级的聚合物薄膜上,然后卷绕成金属化元件串并联组合而成。图1为一种常用的金属化膜电容器芯子结构,其由金属镀层电极1和位于其下的聚合物薄膜介质层2构成,电极1在其与介质层2齐平的一端设...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。