技术编号：11727800
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种适应高真空度的低电磁散射背景环境实现方法，属于等离子体隐身性能测试技术领域。背景技术作为一种新兴隐身技术，等离子体相对于一般隐身材料具有特殊性，即等离子体在大气中会复合，可以流动等，针对等离子体对目标飞行器的隐身性能难以在传统测试场中进行测试。等离子体生成、维持与环境关系密切，一般的较大尺度自由空间等离子体需要在相对较低气压下才能维持，因而，等离子体性能测试一般需要具备真空环境。另一方面目标隐身性能测试需要相对较低的电磁散射背景，以有效获取目标的散射特征。因此等离子体隐身性能测试需...
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