技术编号:11730613
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明图案化金属网栅薄膜的制作方法属于光学透明导电薄膜技术领域。背景技术透明导电薄膜广泛运用于触控液晶面板、有机发光二极管、光伏器件、智能玻璃以及光窗电磁屏蔽等领域。目前,比较常见的透明导电薄膜有ITO薄膜和金属网栅薄膜两种。ITO薄膜是在光学基底表面,通过蒸镀或溅射的方法形成一层铟-锡氧化物(ITO)膜等的透明导电材料,由于ITO薄膜存在机械稳定性差、高温下化学稳定性差、脆性以及稀有金属铟价格昂贵等问题,因此ITO薄膜的发展受到了限制;金属网栅薄膜的出现,克服了ITO薄膜的上述问题,这类薄膜是...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。