技术编号:11742834
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体为一种半自动立式单门真空磁控溅射带蒸发镀膜设备。背景技术真空蒸发镀膜技术是PVD(物理气相沉积)技术中发展最早,应用领域很广的镀膜技术。其工作原理是将膜材置于真空镀膜设备的蒸发源(用来加热膜材使之气化蒸发的装置)中,在高真空条件下通过蒸发源加热膜材使之蒸发形成蒸气,蒸气到达被镀的基材表面后由于基材温度较低,蒸气便凝结在基材表面形成薄膜。目前广泛应用的是箱式蒸发镀膜机,这种箱式蒸发镀膜机主要采用电阻加热蒸发源和电子束加热蒸发源(由电子枪和坩埚组成)两种蒸发源。这...
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