技术编号：11760249
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种热紫外一体纳米压印装置所属技术领域涉及一种可用于器件制造如半导体器件，光学器件和生物制品的纳米压印装置，涉及热压印、紫外压印、热紫外压印三种压印工艺，LED紫外冷光源固化纳米压印装置，属于微纳制造和器件制造技术领域。背景技术随着科技的进步，适应半导体集成电路技术的飞速发展，普通的光学光刻分辨率已经达到了极限。随之而来，最近几年出现了普通光学光刻技术的替代技术：极紫外光刻(EUV)技术和纳米压印技术(NIL)。极紫外光刻技术使用波长11～13nm的极紫外光，采用精度极高的反射式光学系统，以避免...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。