技术编号:11768039
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体工艺设备领域,特别涉及一种蒸发源和蒸镀装置。背景技术蒸镀是将金属等材料加热至蒸发或升华,然后使形成的蒸汽在低温零件上析出,形成薄膜的一种工艺技术。这种工艺在半导体工艺中有着广泛的应用,例如可以用来制备OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机发光二极管)的电极等膜层。在蒸镀工艺中,用于产生蒸汽的设备叫做蒸发源,蒸发源主要包括坩埚、加热丝、反射板和冷却装置,加热丝设置在坩埚的外壁上,用于对坩埚进行加热。反射板则围绕在加热丝外,用于将加热丝和坩埚向外辐射的热向...
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