技术编号:11768076
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于处理多个基板的基板处理系统及方法本申请是申请日为2013年1月31日、申请号为201380007166.X,题为“多腔室基板处理系统”的申请的分案申请。技术领域本发明的实施例大体上关于用于处理基板的设备。更特别的是,本发明关于用于在基板上执行原子层沉积(ALD)与化学气相沉积(CVD)的批处理平台。背景技术形成半导体组件的工艺一般是在含有多个腔室的基板处理平台中进行。一些例子中,多腔室处理平台或群集工具的目的是为了在受到控制的环境中依序于基板上执行两道或更多道工艺。然而,其它例子中,多腔室处...
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