技术编号：11773325
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光刻投影物镜制造领域，具体涉及一种具有自重补偿功能的光刻投影物镜中透镜支撑装置。背景技术光刻投影物镜是超大/极大规模集成电路制造工艺中的关键设备，近年来随着集成电路线宽不断减小，光刻投影物镜光学系统对光学元件面形精度的要求越来越高，需要对支撑时重力引起的透镜面形进行严格控制。为了保证透镜使用状态下面形精度均方根值优于1nm的高精度指标，需要考虑结构设计、加工和装调全过程。在结构设计时，考虑使用状态下的支撑方式对重力变形的影响，分析加工和装调过程中产生误差对使用的影响。因此必须探索一种使...
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