技术编号:11776585
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对基板实施等离子体处理的等离子体处理装置和等离子体处理方法。背景技术在平板显示器(FPD)的制造过程中,对于被处理基板,进行蚀刻、溅射、CVD(化学气相成长)等的等离子体处理。作为实施这样的等离子体处理的等离子体处理装置公知的是,例如,在处理容器内配置一对平行平板电极(上部电极和下部电极),将被处理基板载置在作为下部电极发挥作用的金属制的基板载置台,并且将腔室内保持真空的状态,对电极的至少一者施加高频电力在电极间形成高频电场,通过该高频电场形成等离子体气体的等离子体,对被处理基板实施等...
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