技术编号:11776601
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开至少一个实施例涉及一种膜层图案化方法、阵列基板及其制作方法。背景技术在阵列基板的制作工艺中,图案化膜层的过程一般采用光刻胶作为掩模对待图案化的膜层进行图案化,因此,制作的光刻胶掩模的精度对于膜层上待形成的小尺寸图案具有很大影响。发明内容本公开的至少一实施例提供一种膜层图案化方法、阵列基板及其制作方法。该膜层图案化方法利用热融性光刻胶在显影和后烘后发生高温融塌的特点,为待图案化的膜层形成曝光机精度以下的小尺寸图案提供可能,并且该方法工艺简单、成本低。本公开的至少一实施例提供一种膜层图案化方法...
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