技术编号：11776666
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施方式涉及基板处理装置以及基板处理方法。背景技术基板处理装置例如在半导体等的制造工序中，进行在晶圆、液晶面板等基板上形成电路图案的成膜工序、光学处理。在这些工序中，在主要使用处理液的湿法中，使用单片式的基板处理装置，对基板进行药液处理、清洗处理，干燥处理等(例如，参照日本专利公开公报2000－133625号)。在单片式的基板处理装置中，把持基板的外周面，以与基板的表面正交的轴作为旋转轴使基板旋转，并对该旋转的基板的表面供给处理液(例如蚀刻液、清洗液、纯水)。在基板处理装置中，在向基板的...
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