技术编号:11776762
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及传感器技术领域,更具体地,涉及一种通过离子注入工艺辅助形成的传感器微透镜的制造方法。背景技术目前,CMOS图像传感器和红外传感器已得到了广泛的应用。在CMOS图像传感器和红外传感器中,通常都需要使用微透镜来汇聚入射CMOS图像传感器的可见光或入射红外传感器的红外光,以增强CMOS图像传感感光二极管的感光效率或增强红外传感器红外感应结构的吸收率及提高感应灵敏度。微透镜可通过各种方法制造,诸如使用激光脉冲的刻蚀方法、使用光刻胶的回流方法、干法刻蚀方法、使用二氧化碳(CO2)激光的玻璃表面处...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。