技术编号：11800504
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及工具领域，尤其涉及一种清洁工具。背景技术现有技术中，低温多晶硅的制备中使用的设备内腔体内部空间较大。清洁设备内腔体时，清洁人员必须趴在腔体的上方，手持沾有酒精的无尘布，探入内腔体，对设备内部进行擦拭。在实现现有技术过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：由于待清洗设备内腔体空间较大，使用无尘布对腔体空间清洗效率低，并且清洁人员在探入内腔体时还会有跌入腔室的危险。因此，需要提供一种可以解决上述问题的技术方案。发明内容本发明提供一种解决上述工作效率低的技术方案。具体的，一种清洁工具，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。