技术编号:11808536
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及工业废气处理领域,特别是涉及一种废气处理装置。背景技术在半导体、面板显示器、LED、太阳能、MEMS微机电等制造业中用来处理其生产过程中的废气。如半导体行业,制程设备生产过程中排放的物质大体分为三类属性。第一类是易燃易爆属性,如氢气(H2)或硅烷(SiH4)类。第二类是有毒属性,如一氧化二氮(N2O)、氯气(Cl2)、氟气(F2)类。第三类是温室效应属性,如四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、六氟化硫(SF6)类、其中三氟化氮(NF3)也具有有毒属性。因此在它们排放到环境前必须...
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