技术编号:11841162
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及冶炼技术领域,具体涉及一种电解液的溢流装置。背景技术现有技术中,铜矿企业一般是将制备得到的粗铜置于电解槽中采用电解法精炼纯铜,但是实际生产中,粗铜中的砷、锑、铋等杂质会伴随铜同步发生电解生成砷离子、锑离子等杂质,这些离子杂质在铜电解液中能够形成溶解度很小的絮状物质并粘附于阴极以及电解铜的表面,大大地降低了生成的电解铜的质量。为此,实际布置时会电解槽内的电解液处于不断的循环流通状态中,即如图1所示,实际会不断地有新的电解液通过管道补充到电解槽1内,同时电解槽1内也会设置一溢流管2,溢流管...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。