技术编号：11851087
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。使用散射术计量的焦点测量相关申请案的交叉参考本申请案主张2014年3月31日申请的第61/973,151号美国临时专利申请案的权益，所述临时申请案的全文以引用的方式全部并入本文中。技术领域本发明涉及计量的领域，且更特定来说，本发明涉及使用散射术计量的焦点测量。背景技术光刻工具是用以将所要图案印刷到衬底上的机器。所述工具用以将图案从掩模转印到印刷于晶片上的个别集成电路层。转印通常经由成像到感光层(称为抗蚀剂)上而实施。随着图案元件的目标临界尺寸(CD)缩小，成像工艺窗(processwindow)...
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