技术编号：11851944
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于支撑加热单元的支撑系统以及包括至少一个加热单元的加热系统。背景技术包括阻抗式加热单元的熔炉或电式加热器是广为人知的，且被使用在不同的工业中，用于多种不同的应用。当电流被施加通过亦称为加热丝的导电式加热单元时，产生热量，且由于电阻式电能而被消散成热量。典型地，加热单元被放置在靠近要加热的对象或材料的地方。用于各种不同应用的加热器系统(例如用于MOCVD(金属有机化学蒸气沉积)技术的反应器，该技术被使用在例如半导体材料的处理上，例如用于化合物半导体的外延成长)必须在例如高过800℃...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。