技术编号:11888204
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在基板支架的两个相背离的宽侧分别支承基板的基板支架本发明涉及一种基板支架和与基板支架共同作用的CVD(化学气相沉积)反应器,在该CVD反应器内可以布置基板支架。在此涉及CVD或PVD(物理气相沉积)反应器,尤其用于沉积碳纳米管。基板支架构造有两个相互背离的端侧面。DE19522574A1、US2010/0319766A1和US2013/0084235A1描述了一种用于给基板覆层的装置。基板部分安置在基板支架上;但是基板的另一部分也在两个对置的进气机构之间悬空。US2013/0089666A1描述...
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