技术编号：11897349
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及稀土抛光粉制备技术领域，具体是一种无机复合磨料及其制备方法。背景技术近年来，国内对高端精密元件的抛光要求越来越高，因此刺激了国内对高端抛光粉的研究。目前，高级抛光粉主要应用于液晶显示器、电子精密器件、高端光学元件、液晶玻璃基板、硬盘玻璃基板等邻域。CMP（ChemicalMechanicalPolishing）是公认的几乎唯一的全局平坦化技术，但在抛光过程中单一的无机抛光材料往往得不到令人满意的结果，例氧化硅抛光粉具有易制备，硬度小，浆料分散性好等优点，但其抛光效率低；铈系稀土抛光粉具...
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