技术编号：11912354
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抛光技术，更具体地说，涉及一种亚纳米级离子束抛光设备及抛光方法。背景技术现代科学技术的迅猛发展，使得光学和微电子学等领域对超光滑表面的需求日期增多，同时它们对相关重要零件的表面精度要求也越来越高，需要达到纳米级甚至是亚纳米级的水平。正是由于这种需求带动了精密加工技术的发展。近年来，集成电路向着超大规模、极大规模的发展日新月异，光刻线条的特征尺寸也越来越小。为保证光刻质量，基片表面的精度要求是非常严格的，除此之外，超光滑表面也被应用于其它常见的领域，其中包括高密度磁记录及光记录器件的制造...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。