一种掩膜板和阵列基板的制作方法与工艺技术资料下载

技术编号:11915424

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本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板和阵列基板。背景技术在制作面板时,为了减少电极阵列与公共电极之间的耦合,以及降低不同半导体材料层(例如数据线所在的半导体材料层和扫描线所在的半导体材料层)之间的耦合,面板中的有机绝缘膜一般都希望具有较大的厚度。但是有机绝缘膜20的厚度上升的同时会带来各种负面影响,一是AA(AtiveArea,有效显示区域)区的过孔之间的平坦区减少,过孔的倾斜面与电极的表面形成的角度(即Taper角)变大,如图1A所示,Taper角的角度β达到了50°左右;二是有机绝缘膜...
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