技术编号:11937224
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及溶液除杂技术领域,具体是一种镍溶液深度净化除硅的方法。背景技术镍湿法冶炼中得到的镍溶液,其中含有钴、钙、镁、铅、硅等杂质,通常利用萃取法和沉淀法对钴、钙、镁、铅进行针对性的除杂后用于镍板及镍盐晶体的制备,但对杂质硅没有相应的处理工艺,体系中的硅含量维持在0.5~1g/L之间。随着镍盐产品在锂离子电池正极材料中的不断应用,对其杂质含量的要求也越来越高,尤其是杂质硅,由于生产过程中不可避免会再次引入,因此对原料中硅含量要求更高。关于溶液中深度除硅方法的研究,主要集中在氧化铝生产过程中铝酸钠...
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