技术编号：11955763
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置。背景技术溶液制程是制造显示装置的重要制程之一，溶液制程指的是将溶液状态的发光材料以喷墨喷嘴细微地喷洒于目标位置处。但溶液制程对阵列基板的平坦度的要求较高，而由于阵列基板上的栅线和源漏极金属图形存在交叠区域，所以形成有栅线和源漏极金属图形的阵列基板的最大高度远远大于阵列基板的最小高度，所以阵列基板的平坦度较差。因此，需要一种阵列基板的制造方法来改善该平坦度问题。现有技术中有一种阵列基板的制造方法，通过该方法，如图1所示，先在衬底基...
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