技术编号:11972046
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及向旋转的基板的表面或者背面供给蚀刻液来进行蚀刻处理的基板处理方法以及采用该基板处理方法的基板处理装置。作为处理对象的基板,例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(FieldEmissionDisplay:场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。背景技术日本特开2002-336761号公报所记载的基板处理装置包括:旋转卡盘,其水平地保持基板并使其旋转;供液喷嘴,其向被旋转卡盘保持的基板供给处理液...
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