技术编号：11974920
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于纳米涂层技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备。背景技术真空电弧离子镀膜是在真空条件下，利用较高电流，通常几十安培倒几百安培之间，把靶材材料以等离子体的方式激发出来，并沉积到被镀基片表面，从而达到材料表面改性的目的。真空电弧离子镀膜属于弧光放电。真空电弧离子镀膜的原理示意图如图1所示：恒流源阴极连接靶材11’，阳极连接敲击探头13’，默认状态下，阴极和阳极处于断路状态，恒流源电流设置通常为几十到几百安培；抽气系统将容器10’抽气至真空状态；将阴极靶材11’充分冷却；触发阳极探头13’敲...
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