技术编号:11984982
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种精确低温控制的窑炉余热利用装置,主要应用于低温精确控制、低温排胶工艺的陶瓷制品烧成系统。背景技术常规梭式窑能满足大多数耐火材料及陶瓷制品的烧成,但在某些特殊陶瓷制品领域存在很大不足。某泡沫陶瓷行业要求400度以前缓慢精确提升温度,在此阶段制品大量易燃的有机添加剂挥发,而产品要求此阶段挥发份不得燃烧。而常规梭式窑在400度前温度控制不易达到制品要求的温控精度,更重要的是无法避免可燃挥发份的燃烧而使得窑内发生爆燃易造成危险。另外可燃挥发份的不完全燃烧产物的排放对空气有较大污染。实用...
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