技术编号:11985431
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶片面型测量,特别是一种非接触式高精密晶片面型测量仪器。背景技术晶片厚度测量仪器分为接触式和非接触式测量,但是在传统的测量中,只能够单点测量,并不能有效测量整个晶片的厚度分布以及差异,现在大多数晶片在进行晶片面型测量时,所使用的晶片面型测量仪器,多是采用的接触式的方法,通过机械位移的变化以计算晶片单面的面型。该测量计算方法只能够以单线测量的方式计算面型的变化;却不能反应晶片整体的面型变化趋势。实用新型内容针对上述问题,本实用新型提出了一种非接触式高精密晶片面型测量仪器。为解决以上技...
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