技术编号:12020891
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种槽式湿制程的领域,特别涉及一种湿化学处理设备。背景技术按,应用于半导体、太阳能电池等的比如硅晶元(siliconwafer)、硅晶基板(siliconsubstrate)、玻璃基板、陶瓷基板等,在制程中因为图形化或蚀刻、清洗等需要,通常需进行槽式湿制程。所述槽式湿制程,比如包含蚀刻或清洗等处理。在所述槽式湿制程中,由于是采用批次式的生产方法将多个晶元或基板(如9至50片)一同置入于一湿化学处理设备的湿制程槽体中进行处理,因此所述湿化学处理设备内部管路的流场设计是影响所述槽式湿制...
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